該服務實現(xiàn)了對不同材料的選擇性刻蝕，可對不同材料微結構進行精細化處理，實現(xiàn)無掩模圖像化。
原子級沉積能幫助您精確操縱原子，最薄可沉積單原子的超薄膜。該技術能達到極好的三維保形性，能獲得高平整性、附著性，還適用于不同形狀的基底。
超淺層離子注入服務可實現(xiàn)亞5 nm超淺層離子注入，分辨率可達0.6 nm，能精準控制注入深度、濃度和分布。該技術對于提升半導體器件的性能至關重要，能夠有效改善電氣特性，滿足現(xiàn)代集成電路對高性能和高密度的需求。
我們的原子級平坦化技術能夠將材料表面處理至原子級別的平坦度，Ra<0.5 nm，平整度高，為后續(xù)工藝提供理想的基底。
我們的無損傷清洗技術采用原子級團簇束流，能夠在8寸晶圓上去除晶圓制造過程中的納米級顆粒、自然氧化層、金屬污染、有機物等雜質。
根據用戶特定的需求和應用領域，提供個性化的技術方案，確保系統(tǒng)能夠滿足最前沿的科研或工業(yè)應用的要求。
